真空镀膜

真空镀膜系统内净化气体和反应气体的输入需要快速的响应和精确的控制。艾里卡特质量流量控制器和压力控制器具有快速的控制响应速度和EtherCAT通讯模式。有了这种EtherCAT通讯模式，将不再需要EtherCAT转换器，仪表也能更轻松地整合到工业PLC网络中。

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升级为艾里卡特质量流量控制器非常简单。我们的MCE系列产品满足SEMI对连接长度的规范要求，它可通过插入方式与众多其它生产商的旧版MFC兼容。艾里卡特MCV是旧版MFC的插入式替代品，配有集成式启动截止阀。

化学蒸汽沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）过程所用腐蚀性气态和液态前驱体需要不会随时间推移而被腐蚀的质量流量仪表。艾里卡特S系列（MC、MCES、MCVS）质量流量控制器采用316L不锈钢材质的流量传感器和FFKM弹性体，能够忍受这些严酷的元素。

通过快速控制反应气体流量，确保薄膜涂层的均匀性。艾里卡特产品控制响应时间仅50ms或更短，确保被引入您反应溅射过程的反应气体保持一致且可重复。我们将根据您的预期过程条件设置每一台流量控制器的PID调节功能，而且，如果您需要更改设置，您可在安装后随时更改这些设置。

使用艾里卡特集成式真空控制器（IVC）代替下游节流阀和PID控制模块，降低真空沉积系统成本。这种压力控制器上游有控制阀门，且内置电容薄膜真空传感器，因而无需使用昂贵的外部真空计。