实验室合成钻石
借助超低流量质量流量控制器MFC，实现更稳定、可重复的钻石生产
Alicat 提供高稳定性与高重复性，这使工程师能够确信，他们独特的工艺配方和工艺流程已经得到了精准的执行。Alicat的MFC能够对低流量真空应用提供精确的质量流量控制，无需使用混合气体，从而以更低的成本生产出更优质的钻石。
产品指南
Alicat 培育钻石专用产品
用于培育钻石 CVD 工艺的质量流量与压力控制器
• 通过精确平衡碳、氢、氧的比例来控制生长速率。可在数千批次中重复再现成功的工艺配方。
• 质量流量计和控制器配备气体选择功能，可在甲烷、氩、氧气（或其他95种气体）之间切换，且不影响准确性。
• 专为 CVD 工艺设计的压力控制器配备有快速动作比例控制阀，可快速响应并维持腔室内压力的稳定。
应用与使用场景
使用化学气相沉积法生产实验室培育钻石
三十多年来，Alicat 一直与 CVD 设备制造商和系统集成商合作，生产高质量的实验室培育钻石。不同类型的 CVD 法（例如MPCVD等）需要不同比例的氢气、甲烷和载气进行混合，来高效培育钻石。
具备流量和压力调节功能的CVD人造钻石制造设备
要采用任何 CVD 方法生产高品质的培育钻石，制造商都依赖 Alicat 的设备来确保氢气、甲烷及各种载气和辅助气体的精确气体配比。
了解如何利用 Alicat 的质量流量与压力仪表，提升用于培育钻石的燃烧火焰辅助法、热丝辅助热解法及等离子体增强 CVD 工艺。
激光等离子体 CVD法帮助制造培育钻石
等离子体增强 CVD （PECVD）是目前制备培育钻石最主流的技术。而激光等离子体 CVD（LPCVD） 则是一种较为冷门的方法，该工艺自20世纪90i安代开始被使用，其在常压及正压条件下运行，理论上具有比其他工艺更快的金刚石生长速率。
Alicat 仪表可帮助您设计更优的激光等离子体 CVD 系统，从而提升钻石的培育效率。
