PVD、ALD过程中的精密气体流量控制

真空镀膜系统内净化气体和反应气体的输入需要快速、稳定、精确的控制。设计创新的艾里卡特质量流量控制器不但在性能可靠性上优于传统MFC,并提供可竞争的销售价格。

产品手册


 
质量流量控制器用于等离子气相沉积设备

真空镀膜应用中可靠产出的保障

  • 快速控制清洁气和反应气的流量,从而确保真空镀膜腔体内最佳的气体混合
  • 微小流量的精密控制 – 最小可控流量为0.025sccm!
  • 试验室和各种测试台的首选
  • 开放行业内领先的通讯协议,如:EtherNet/IP,DeviceNet等,方便各种工业应用

影响真空镀膜最终结果的设备和因素

  • 压力控制器、质量流量控制器
  • 快速、精密的气氛控制,以保障最佳镀膜效果
  • 简化的系统设计,从而节省真空镀膜设备的安装和维护成本
  • 气体可切换,以减少不必要的质量流量控制器库存
  • 适用于腐蚀性气体的不锈钢本体

想了解更多关于真空镀膜腔体内流量和压力的控制吗?



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真空镀膜腔体内的压力控制

PVD、ALD: 控制真空镀膜系统内的流量和压力

真空镀膜腔体内的压力波动将导致镀膜不均匀以及重复性欠佳。质量流量控制器控制反应气体的同时,采用压力控制器控制腔体内惰性气体的压力,从而提升最终等离子气相沉积(PVD)的结果.
应用案例


溅射喷涂流量控制

真空溅射喷涂的流量控制

控制溅射室内等离子的量是尤为关键的一个步骤。快速的控制响应、适当的流量分辨率及反应气体的分压的控制不仅可提升整个溅射过程的重复一致性,也同时有效防止了被镀材料中毒。25~50毫秒的控制响应速度将使得您的系统卓尔不群。
应用案例


External Ion Gauge Vacuum Control System

镀膜: 外接传感器的真空控制系统

与真空压力表匹配的上游真空控制包括电容压力计和电离真空计,采用特殊结构的艾里卡特单阀压力控制器可快如闪电地控制真空程度。
应用案例


MCE半导体应用标准专用质量流量控制器

半导体行业专用质量流量控制器 MCE系列

MCE系列专门用于替换陈旧或性能欠佳的热式质量流量控制器,设备结构、安装模式、功能等无任何差异,方便用户快速、简易地进行替换,并可定制引脚分配使之与用户端的控制系统兼容,封闭式阀门设计更是符合半导体行业国际标准,最大量程:0-20 slpm,另有316L不锈钢结构的耐腐蚀系列(MCES)可选。
MCE 规格参数


MCV 真空应用质量流量控制器

真空应用专用质量流量控制器 MCV系列

MCV专门用于高真空应用,在上述MCE系列的基础上另增加一集成式气动截止阀,有效杜绝设定值为零时气体进入真空腔体,最大量程:0-20 slpm,另有316L不锈钢结构的耐腐蚀系列(MCVS)可选。
MCV 规格参数


IVC Integrated Vacuum Controllers

ICV系列质量流量控制器专门用于真空应用,是昂贵后置阀门的则他方案。相比之下,后置阀门响应速度较慢且不易操作。

IVC内含可精确控制至几毫托(毫托=微米汞柱)的真空传感器,传感器可垂直安装于出口端或与阀门及气路成一直线。带有真空传感器的质量流量控制器非但响应速度快,更节省了额外的配件费用。
IVC 产品手册


PC-EXTSEN/PCR-EXTSEN 单阀压力控制器(外部传感器)

Alicat PC-EXTSEN 单阀压力控制器 外部传感器

PC-EXTSEN系列内本身无传感器,而是通过专用接头与线缆直接与外部传感器连接,并采集由该外部传感器测得的压力数值,模拟通讯和数字通讯均可。该系列压力控制器尤其适用于真空镀膜应用。
PC 规格参数 PC-EXTSEN 补充操作说明